[发明专利]一种光学元件体缺陷的提取方法有效
申请号: | 202010543080.0 | 申请日: | 2020-06-15 |
公开(公告)号: | CN111899215B | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 刘东;王玥;程郉磊 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/181;G01N21/95;G01N21/88;G01M11/00 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 彭剑 |
地址: | 310013 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学元件体缺陷的提取方法,包括:(1)采用两台激光光源发出光线,分别经过分光镜和反射镜,照射光学元件内部,经过内部体缺陷散射后在CCD处成像;(2)针对光学元件内不同层次扫描得到的体缺陷二维图像,计算相邻两层之间光斑外接矩形的交并比,判断是否为同一个体缺陷;(3)进行预处理,并设置灰度阈值进行二值化;(4)划分感兴趣区域,并建立滑窗对其遍历进行逐点扫描;(5)计算滑窗处的清晰度,对实验中光斑图案进行判别并去除不清晰部分;(6)结合附近层次体缺陷扫描二维图像计算亮斑的外接矩形长宽比,如果超出阈值,则作为体缺陷剔除,得到真正的体缺陷图像。本发明方法检测效果好,速度快,抗干扰能力强。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 元件 缺陷 提取 方法 | ||
【主权项】:
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