[发明专利]单体多通道二极管阵列在审

专利信息
申请号: 202010489291.0 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN112038335A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: V·G·舒克拉;M·B·威尔蒂;L·娄 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/08;H01L21/8222
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 徐东升
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请题为“单体多通道二极管阵列”。电子装置(100、200、300)包括第一导电类型(N)衬底(102)和具有第一掺杂剂浓度的第二导电类型(P)外延层(104)。第一衬底区(103)包括第二导电类型掩埋层(100)并且被第一深隔离结构(101A)包围。在第一衬底区内是具有第二导电类型(P)和大于第一掺杂剂浓度的掺杂剂浓度的第一掺杂区(112)以及具有第一导电类型(N)的第二掺杂区(114/116)。第二衬底区(105)包括第一导电类型(N)掩埋层(118)并且被第二深隔离结构(101B)包围。在第二衬底区内是具有第二导电类型(P)和大于第一掺杂剂浓度的掺杂剂浓度的第三掺杂区(120)。
搜索关键词: 单体 通道 二极管 阵列
【主权项】:
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