[发明专利]一种负极片及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 202010485973.4 | 申请日： | 2020-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN111584825B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 赵仕绪;杜双龙;熊后高;伍山松;吕正中;刘金成 | 申请（专利权）人： | 湖北亿纬动力有限公司;惠州亿纬锂能股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/133 | 分类号： | H01M4/133;H01M4/1393;H01M4/04;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 448000 湖北省荆*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种负极片及其制备方法和用途，所述负极片包括集流体及涂覆在所述集流体上的膜层，所述膜层包括与集流体接触的第一膜层和涂覆在第一膜层上的第二膜层，所述第二膜层包括快充石墨。进一步地，所述膜层的孔隙率从集流体到膜层表面逐渐增大，呈梯度分布。所述负极片将快充石墨设置在第二膜层中，可直接与电解质接触，充分发挥快充石墨的性能，同时提升厚极片的电化学性能。所述方法既能达到快充的目的，又能使生产成本降低，同时能够实现极片的孔隙率梯度分布，改善负极片的微观结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 负极 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
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