[发明专利]一种ZIF-8纳米片晶及其超薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010466471.7 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN111533921A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 潘宜昌;穆昊;吴婷婷;邢卫红 申请(专利权)人: 南京工业大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C08J5/18;C08L87/00
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 汤志武
地址: 211816 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种ZIF‑8纳米片晶以及超薄膜的制备方法,属于MOFs纳米晶体制备及气体分离膜的制备技术领域,本发明的ZIF‑8纳米片晶使用晶种法制备,晶种的制备和晶体的生长相互分开,所述晶种和所述晶体均是在液体环境下制备。将ZIF‑8纳米片晶利用真空抽滤法铺展在多孔支撑体上面制备ZIF‑8超薄膜。本发明通过利用晶种法将晶体的合成分为晶种的制备和晶体的生长两个步骤,这个方法将晶核的形成和晶体的生长有效的分开,从而制备得到了纯度较高(85%)且厚度约为25 nm的ZIF‑8纳米片晶,最后将晶体利用真空抽滤法铺展在多孔支撑体上面制备ZIF‑8超薄膜。此方法为制备ZIF‑8纳米片晶及其超薄膜提供了一种新的方法。
搜索关键词: 一种 zif 纳米 及其 薄膜 制备 方法
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