[发明专利]往复式旋转CVD设备及应用方法

摘要

本发明提供一种往复式旋转CVD设备及应用方法，包括腔体，晶圆加热基座，旋转装置，所述旋转装置位于所述腔体外，包括旋转动力机构及旋转密封机构，所述旋转密封机构包括旋转件及固定件；其中，所述固定件与所述腔体固定密封连接，所述旋转件与所述晶圆加热基座固定密封连接，且所述旋转件与所述固定件活动密封连接，且所述旋转件与所述旋转动力机构相连接，以通过所述旋转动力机构带动所述旋转件及晶圆加热基座进行往复式旋转运行。本发明通过旋转装置的旋转，可改善晶圆圆周方向上薄膜沉积的均匀性，降低设备及晶圆制造成本。