[发明专利]渐变拼接的多次曝光大画幅3D打印系统及使用方法有效

专利信息
申请号: 202010458076.4 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN111361147B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 卫洁君;刘默晗;李清明;王蔚生 申请(专利权)人: 上海唯视锐光电技术有限公司
主分类号: B29C64/124 分类号: B29C64/124;B29C64/282;B29C64/386;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201306 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种渐变拼接的多次曝光大画幅3D打印系统包括光栅尺、样品池、样品台、计算机、移动平台、若干相同的DLP光机。其打印步骤为:对三维图像的Z轴进行分层,将三维图像转换为多层的二维图像,逐层打印;相邻两台DLP光机在打印轴方向具有重合部分,拼接处采用亮度渐变方式进行拼接,并沿光栅尺方向将光机最大曝光区域平均划分为i个子曝光区,每个子曝光区曝光i次,每次打印完成,移动平台沿光栅尺方向移动前进一个子曝光区距离;直至该层平面打印完成;将样品池中样品台向下移动一层的距离,进行上一层平面的曝光;直至样品打印完成。本发明消除了拼接处的亮度突变,通过细化曝光区域和多次曝光,从而消除产品的脆弱点,提高打印画幅和精度。
搜索关键词: 渐变 拼接 多次 曝光 画幅 打印 系统 使用方法
【主权项】:
暂无信息
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