[发明专利]基于内插的InSAR小面积阴影区域DEM修正方法在审
| 申请号： | 202010438842.0 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN111626952A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 李芳芳;丁赤飚;胡玉新;张月婷;胡东辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院空天信息创新研究院 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T5/30;G06T7/13;G06T7/62 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种基于内插的InSAR小面积阴影区域DEM修正方法，包括以下步骤：检测干涉SAR图像中的阴影区域，并利用形态学方法将阴影区域的边缘规整化；对每一个闭合的阴影区域，统计其面积，设定阈值A，将面积小于阈值的区域判定为小面积阴影区域；对每一个闭合的阴影区域，提取其边缘；对每一个闭合的小面积阴影区域，扫描该区域的每一方位门，选取该方位门上沿距离向的近距端和远距端的两个边缘点，读取其高程值；对每一个闭合的小面积阴影区域，根据每一方位门的两个边缘点的高程，通过沿距离向插值计算出所述方位门观测视线上的高程；扫描小面积阴影区域的每一个距离门，对所述距离门上的像素进行均值滤波，从而消除不同方位门之间的条纹效应。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 内插 insar 面积 阴影 区域 dem 修正 方法 | ||
【主权项】：
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