[发明专利]剥离层形成用组合物和剥离层有效

专利信息
申请号: 202010423416.X 申请日: 2016-03-29
公开(公告)号: CN111423813B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 江原和也;进藤和也 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C09D179/08 分类号: C09D179/08;C08G73/10
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 何杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及剥离层形成用组合物和剥离层。本发明还涉及柔性电子器件的制造方法,其包括如下工序:在玻璃基体上涂布剥离层形成用组合物,对得到的涂膜进行加热来形成剥离层;在上述剥离层上涂布树脂溶液,对得到的涂膜加热,形成经由上述剥离层固定于玻璃基体的树脂基板,上述剥离层形成用组合物包含在其聚合物链末端的任一端或两端引入锚固基团而成的聚酰胺酸和有机溶剂,上述锚固基团为甲硅烷基。
搜索关键词: 剥离 形成 组合
【主权项】:
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