[发明专利]抗蚀剂组合物、其制造方法及包含其的制品

摘要

本文公开了包含第一重复单元和第二重复单元的聚合物，其中所述第一重复单元含有酸不稳定基团，并且所述第二重复单元具有式(1)的结构：其中R1、R2和R3各自独立地是氢、卤素、取代或未取代的C1至C12烷基或C3至C12环烷基，其任选地含有醚基团、羰基、酯基团、碳酸酯基团、胺基团、酰胺基团、脲基团、硫酸酯基团、砜基团、亚砜基团、N‑氧化物基团、磺酸酯基团、磺酰胺基团、或其组合、取代或未取代的C6至C14芳基、或C3至C12杂芳基，其中所述取代是卤素、羟基、氰基、硝基、C1至C12烷基、C1至C12卤代烷基、C1至C12烷氧基、C3至C12环烷基、氨基、C2‑C6烷酰基、甲酰氨基、取代或未取代的C6至C14芳基、或C3至C12杂芳基；其中R1和R2一起任选地形成环；并且其中n＝1‑3。