[发明专利]聚(3-己基噻吩)与碲化汞量子点构筑的混合型光电晶体管及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202010413196.2 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111640875A 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 董轶凡;袁勋龙;夏帆 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 王佩
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种聚(3‑己基噻吩)与碲化汞量子点构筑的混合型光电晶体管及其制备方法和应用。本发明采用DMF作为反应溶剂,最大限度地减少QDs的聚集,使其在溶液中保持良好的分散状态;DPE、TEA和FMT等配体控制QDs的成核及生长、形貌、荧光性质和稳定性;低温阶段为QDs的成核阶段,生成小QDs,然后在升至室温过程中开始生长,最后在高温阶段达到发射波段;再对HgTe QDs进行纯化;然后进行配体交换;再将HgTe QDs进行纯化;将HgTe QDs溶于甲苯形成溶液,有利于抑制薄膜沉积前的量子点聚合;直接将P3HT加入配好的HgTe QDs溶液,制的P3HT:HgTe QDs溶液,通过步骤S11和S12沉积洗涤后得到P3HT:HgTe QDs光电晶体管。本发明的光电晶体管同时具备优异的响应速度,灵敏度和低噪声水平。
搜索关键词: 噻吩 碲化汞 量子 构筑 混合 光电晶体管 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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