[发明专利]基于结构光照明的双光子光场超分辨显微成像方法在审
| 申请号： | 202010410734.2 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111693496A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 范静涛;周逸亮;吴嘉敏;戴琼海 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G06T3/40 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 石茵汀 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于结构光照明的双光子光场超分辨显微成像方法，包括以下步骤：在双光子显微成像的过程中，对像面共轭面小孔处进行0/1光强调制；通过结构光照明方式逐点扫描成像过程中照射在样本上的光斑；利用探测器采集光斑图案，并对所述光斑图案进行解卷积处理，获得超高数值孔径衍射极限的超分辨图像。该方法不受宽场探测的成像过程所限，可避免地存在高低频信息混叠、受信噪比影响大的现象，无需以成像时间和计算量为代价，即可重构出超分辨率图像。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 结构 照明 光子 光场超 分辨 显微 成像 方法 | ||
【主权项】：
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