[发明专利]金属离子交联的高强度稳定氧化石墨烯膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010404383.4 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN111533117B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 谢锐;吕荥宾;刘壮;褚良银;温晓雨;巨晓洁;汪伟 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C01B32/198 | 分类号： | C01B32/198 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 郭萍 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种金属离子交联的高强度稳定氧化石墨烯膜及其制备方法，该氧化石墨烯膜由氧化石墨烯纳米片层层堆叠形成，氧化石墨烯纳米片上的含氧官能团与金属离子与络合形成了规整的层间通道，该氧化石墨烯膜中金属元素的原子百分比为0.48％～1.19％，拉伸断裂应力为108～136MPa。其制备方法如下：将金属箔片平铺在容器中，将水浸润后的基材膜平铺在置于金属箔片上，然后将氧化石墨烯分散液倒入容器中，静置沉积，洗涤，干燥并从基材膜上剥离即得。本发明的方法增加了膜中金属离子的含量和分布的均匀性，使氧化石墨烯膜的稳定性和机械性能得到了同时提升，有效降低了氧化石墨烯膜的生产成本，可实现大面积氧化石墨烯膜的低成本制备。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 离子 交联 强度 稳定 氧化 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学，未经四川大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010404383.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
