[发明专利]一种降低氚渗透速率的结构在审
申请号: | 202010400861.4 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN111739672A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 田英男;米爱军;李晓静;徐亚;张普忠;王晓霞;王炳衡;高桂玲 | 申请(专利权)人: | 中国核电工程有限公司 |
主分类号: | G21F1/08 | 分类号: | G21F1/08;G21F3/00 |
代理公司: | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;任晓航 |
地址: | 100840 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种降低氚渗透速率的结构,适用于各种形式的容器和管道,包括最内层的铜合金或钛合金层,最内层外包覆铝合金结构,铝合金结构包括铝合金防护层和若干铝合金格栅肋片,铝合金结构外设置钢材结构层。本发明所提供的结构可以在保证满足设备材料基础性能的基础上,降低工程建造成本,大幅降低氚的扩散和渗透速率,进一步减少环境污染和人员内照射风险发生的可能性。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 渗透 速率 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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