[发明专利]一种X射线吸收光栅及其制作方法在审
| 申请号： | 202010389492.3 | 申请日： | 2020-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN111575653A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 张催;潘小东;李公平;李畅 | 申请（专利权）人： | 兰州大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/16;C23C14/50;C23C14/58;C23C14/02;G21K1/02 |
| 代理公司： | 青岛致嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 37236 | 代理人： | 王巧丽 |
| 地址： | 730000 甘肃*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种X射线吸收光栅及其制作方法，制作方法如下：(1)基底制备：选择厚度为几十至几百微米的双面抛光硅片作为基底片，均匀涂抹一层SU8光刻胶，制作与X射线吸收光栅图案匹配的掩膜版，在SU8光刻胶上显影出X射线吸收光栅图案，然后刻蚀X射线吸收光栅图案，再去除基底片表面的SU8光刻胶，得到具有X射线吸收光栅图案的硅基底；(2)蒸发镀膜：硅基底上蒸发镀膜，镀膜时将硅基底匀速旋转和平移；(3)表面去膜：镀膜结束后，去除硅基底表面的金属膜层，保留硅基底槽内的膜层，完成X射线吸收光栅的制作。本发明提出的X射线吸收光栅制作方法简单高效、稳定可靠、成本可控，制作出的X射线吸收光栅的结构稳定、厚度均匀、性能可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 吸收 光栅 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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