[发明专利]一种利用热蒸发铝种子层制备顶栅型场效应管的方法有效

专利信息
申请号: 202010376603.7 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111627990B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 彭刚;杨航;罗威;秦石乔 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/10;H01L29/24;H01L21/336;H01L29/78
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 何为;李宇
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种利用热蒸发铝种子层制备顶栅型场效应管的方法,其先热蒸发超薄金属至二维材料表面,然后使二维材料表面干燥,并在干燥箱中自然氧化为种子层,再利用原子层沉积法在二维材料表面生长高介电常数栅介质。所述高介电常数栅介质为Al2O3栅介质或HfO2栅介质。本发明不仅实现了在石墨烯上高质量致密Al2O3电介质层的生长,而且二维材料中不会存在明显的缺陷。
搜索关键词: 一种 利用 蒸发 种子 制备 顶栅型 场效应 方法
【主权项】:
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