[发明专利]光学测量装置及方法在审
| 申请号： | 202010343668.1 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN111998782A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 菲利普·尼姆特施;西蒙·米特 | 申请（专利权）人： | 普莱斯泰克光电子有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 德国新*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的装置，所述装置包括用于光学距离测量的第一机构和用于光学距离测量的第二机构，所述第一机构设计用于测量第一基准平面和不透明层的第一表面之间的第一间距，所述第二机构设计用于测量第二基准平面和不透明层的第二表面之间的第二间距，其特征在于，用于光学距离测量的第二机构还设计用于测量第二基准平面和基板的表面之间的第三间距，其中根据第一间距和第二间距计算不透明层的厚度，其中对第三间距的测量用于计算基板的光学作用对第二间距的间距测量的影响。本发明还涉及一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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