[发明专利]一种基于插层锡原子的三氧化钼可饱和吸收体及其制备方法和光纤激光器在审

专利信息
申请号: 202010340733.5 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN111653929A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 林佳玫 申请(专利权)人: 深圳瀚光科技有限公司
主分类号: H01S3/098 分类号: H01S3/098;H01S3/067;C01G39/02;B82Y20/00;B82Y40/00
代理公司: 广州专才专利代理事务所(普通合伙) 44679 代理人: 林玲
地址: 518027 广东省深圳市龙华区观澜*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种基于插层锡原子的三氧化钼可饱和吸收体,所述可饱和吸收体包括光波导以及设置在所述光波导表面的锡原子插层的三氧化钼纳米材料。本发明基于插层锡原子的三氧化钼可饱和吸收体中,α‑MoO3的本征带隙可以通过金属Sn插层有效地调节,插层原子能在不干扰α‑MoO3本征结构的情况下,引起晶格变化、缺陷和电荷不平衡,从而减小带隙。Sn插层的超薄α‑MoO3纳米带,形成了稳定的Mo‑O‑Sn‑O‑Mo结构,插层后Sn‑MoO3具有明显的非线性饱和吸收强度、高光损伤阈值、高调制深度。本发明还提供了一种基于插层锡原子的三氧化钼可饱和吸收体的制备方法和激光器。
搜索关键词: 一种 基于 插层锡 原子 氧化钼 饱和 吸收体 及其 制备 方法 光纤 激光器
【主权项】:
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