[发明专利]一种利用双光子飞秒激光直写技术3D打印的高灵敏度磁场传感器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010338700.7 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN111443312A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 张登伟;梁璀 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032;G01R33/00;G01D5/353;B33Y80/00;B33Y10/00;B29C64/135
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 郑海峰
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种利用双光子飞秒激光直写技术3D打印的高灵敏度磁场传感器及其制作方法,包含入射单模光纤、双Y分支微结构和出射单模光纤;双Y分支微结构直接打印在入射单模光纤一端面和出射单模光纤一端面上,双Y分支微结构包括参考臂和测量臂,测量臂内包含有一段空心微腔体和微流通道用于填充磁流体材料。测量臂中导模的有效折射率与磁流体折射率密切相关,导致通过参考臂和测量臂上的传播光在公共端干涉后产生较大的相位差,干涉后的光谱由于参考臂和测量臂有效折射率不同而产生周期性的变化,当外界磁场变化时,干涉后光谱的谷产生漂移,通过测量该漂移可以实现对磁场的测量。该传感器具有体积小、灵敏度高、耐腐蚀等明显优势。
搜索关键词: 一种 利用 光子 激光 技术 打印 灵敏度 磁场 传感器 及其 制作方法
【主权项】:
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