[发明专利]一种氮化铝薄膜及其制备方法和用途有效
| 申请号: | 202010310886.5 | 申请日: | 2020-04-20 |
| 公开(公告)号: | CN111364017B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
| 发明(设计)人: | 闫兰琴;褚卫国;徐丽华;赵乐 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/455;C23C16/50;C23C16/52;H01L33/32 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
| 地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种氮化铝薄膜及其制备方法和用途。所述方法采用远程等离子体增强原子层沉积系统,将铝源化学吸附到沉积对象的表面,将氮源与氢气的混合气体形成氮源的等离子体和氢气的等离子体,所述氮源的等离子体与化学吸附在沉积对象表面的铝源进行氮化反应,得到氮化铝薄膜。所述方法中,氢气形成的等离子体有助于破坏铝源的化学键,促进氮化反应,降低沉积温度,实现低温制备氮化铝薄膜,且对沉积对象的损伤较小。此外,所述方法在整个制备过程在强还原性气氛中进行,避免氧对氮化铝薄膜的不利影响。所述氮化铝薄膜均匀、质量高和保形性好,适用于各种衬底及其微纳结构与器件。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 氮化 薄膜 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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