[发明专利]零部件、其表面形成涂层的方法和等离子体反应装置在审
| 申请号： | 202010301207.8 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN113539771A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 段蛟;孙祥;陈星建 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人： | 文言;田宇 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明适用于半导体技术领域，公开一种用于等离子体反应装置中的零部件、零部件表面形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置。等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括涂覆于零部件本体表面的耐等离子体涂层，耐等离子体涂层包括至少两层膜层，膜层为稀土金属化合物，稀土金属化合物包括稀土金属元素的氧化物、氟化物或氟氧化物中的至少一种，且相邻两膜层具有不同的晶粒生长方向。本发明提供的零部件，通过在零部件的表面涂覆耐等离子体涂层，提高零部件的耐热冲击性能，且耐等离子体涂层能够吸收热应力，阻止微裂纹的扩展，降低了耐等离子体涂层从零部件表面脱落的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 零部件 表面 形成 涂层 方法 等离子体 反应 装置 | ||
【主权项】：
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