[发明专利]清洗溶液的使用点共混以缓解图案塌陷在审
| 申请号： | 202010273764.3 | 申请日： | 2020-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN111796494A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 利奥尔·胡利;柴田直树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方案提供了用于图案化光致抗蚀剂的光致抗蚀剂清洗溶液的使用点共混。所公开的方法和系统通过缓解溶液与去离子水和/或其他化学物质的使用点可变共混来形成用于多种不同光致抗蚀剂的不同缓解溶液，以在处理室内分配之前调节溶液的配方。对于一个示例性实施方案，不同的表面活性剂清洗溶液用于不同的光致抗蚀剂，例如不同的极紫外光致抗蚀剂。另外，可以使用该使用点共混来调节缓解溶液内的反应性组分的水平、非反应性组分的水平或两者，以提供经调节的缓解溶液。就在微电子工件例如半导体晶片上分配之前对溶液化学性质进行使用点调节的能力改善了经调节的缓解溶液与图案化光致抗蚀剂之间的相互作用。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 溶液 使用 点共混 缓解 图案 塌陷 | ||
【主权项】：
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