[发明专利]一种高增透减反射膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010264897.4 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN111381297B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 宋伟杰;徐云飞;鲁越晖;张景;艾玲;娄雪勤;舒潘静 | 申请（专利权）人： | 宁波材料所杭州湾研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 陈格 |
| 地址： | 315336 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明属于光学薄膜技术领域，具体公开了一种高增透减反射膜及其制备方法，包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层，所述的底层和顶层均为折射率为1.10～1.30的介孔SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 高增透 减反射膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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