[发明专利]硅片金属杂质检测样品保护装置及硅片金属杂质检测方法在审
| 申请号： | 202010258528.4 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN113495095A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 陈宇驰;张俊宝;陈猛 | 申请（专利权）人： | 重庆超硅半导体有限公司;上海超硅半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/626 | 分类号： | G01N27/626;G01N35/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400714 重庆市北*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片金属杂质检测样品保护装置及硅片金属杂质检测方法，通过本发明公开的方案，可以将金属杂质检测样品放置在保护装置容纳腔中的自动进样器上，由于洁净气流循环系统可以为该保护装置内部输入洁净气流，并采用了一定风速的排风，所以使得自动进样器附近空间不受周围的大气波动影响，且该保护装置将金属杂质检测样品与外部污染源隔离，提升了检测的稳定性和准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 金属 杂质 检测 样品 保护装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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