[发明专利]一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统有效
| 申请号： | 202010241253.3 | 申请日： | 2020-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN111411337B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 曹向东 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，包括连接在一起的真空腔体、真空泵组、真空测量装置、电源控制柜及PLC+ICP+闭环控制系统。真空腔体的一侧通过抽气孔经管道阀体与真空泵组相连，其另一侧与真空测量装置相连；真空腔体设有蚌式对开门的真空腔门体；真空腔门体的正面对称设有一对平面磁控靶，侧面对称设有两对自带布气系统的辅助水冷阳极；每个辅助水冷阳极的外围设有励磁场调制线圈；真空腔体内对称插有两对孪生柱状磁控溅射阴极；柱状磁控溅射阴极、辅助水冷阳极、平面磁控靶、励磁场调制线圈、管道阀体、真空泵组、真空测量装置均分别通过线桥与PLC+ICP+闭环控制系统和电源控制柜相连。本发明可有效阻止靶中毒、提高镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调制 阳极 辅助 磁控溅射 离子 镀膜 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所，未经中国科学院兰州化学物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010241253.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
