[发明专利]一种基于低活化钢基材的钨铬合金涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202010229420.2 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN113445042B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 乐国敏;吴博达;李晋锋;刘学;周昱昭;杨晓珊;王小英;王斗 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院材料研究所 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C22C27/04 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 廖文丽;柯海军 |
| 地址： | 621700 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型的基于低活化钢基材的钨铬合金涂层及其制备方法，属于合金材料技术领域。本发明所述基于低活化钢基材的钨铬合金涂层的钨含量为88～95wt％，铬含量为5～12wt％，钨铬合金涂层的组织呈单相固溶体，且钨、铬元素分布均匀。本发明的钨铬合金涂层组织未发生调幅分解，为钨、铬元素分布均匀的单相固溶体，该组织相比不均匀的两相组织拥有更好的抗辐照和自钝化性能，可避免核聚变发电站在LOCA事故时面临的核泄漏风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 活化 基材 合金 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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