[发明专利]一种约束基坑围护结构水平位移的反压体系及其施工方法在审

专利信息
申请号: 202010226431.5 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN111287200A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 丁飞;曹新刚;刘畅;张雨薇 申请(专利权)人: 中煤第三建设(集团)有限责任公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04
代理公司: 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 代理人: 胡东升
地址: 234099 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种约束基坑围护结构水平位移的反压体系及其施工方法,涉及岩土工程中的基坑施工领域,通过设置钢支架、PVC加筋水囊和限位块;所述钢支架设在基坑坑底;所述钢支架底部的横梁外侧边通过定位块限位,用于实现所述钢支架外侧水平方向的限位;所述钢支架的立柱与围护结构外侧间距对应设置;所述PVC加筋水囊设在所述立柱和围护结构之间;所述PVC加筋水囊下端设在所述横梁的内侧边上。本申请在实际运用过程中,占地小,稳定性高,反压高度大,反压荷载大,施工简便、快捷,经济实用,适用范围广,适合广泛推广。
搜索关键词: 一种 约束 基坑 围护结构 水平 位移 体系 及其 施工 方法
【主权项】:
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