[发明专利]一种对准系统及光刻机有效
| 申请号： | 202010224588.4 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113448191B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 高安;孙建超 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种对准系统及光刻机，对准系统包括：对准光束产生单元，用于产生对准光束；物镜；所述对准光束经过所述物镜后入射至对准标记上并产生一次衍射光；衍射光回射单元，位于所述物镜远离所述对准标记一侧，且设置于至少一路所述一次衍射光的出射光路上，用于将入射至所述衍射光回射单元的所述一次衍射光反射至所述对准标记上并产生二次衍射光；干涉信息探测单元，设置于所述一次衍射光以及所述二次衍射光的出射光路上，用于探测所述一次衍射光与所述二次衍射光的干涉光强度。本发明实施例提供一种对准系统及光刻机，以实现降低了对准系统中光学器件的制造和集成难度，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 系统 光刻 | ||
【主权项】：
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