[发明专利]用于选择性移除硬遮罩的清洗液、其制备方法及应用在审
| 申请号： | 202010208599.3 | 申请日： | 2020-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113430063A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 王溯;蒋闯;刘金霞;张怡 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/722 | 分类号： | C11D1/722;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/386;C11D3/39;C11D3/60;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;何敏清 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于选择性移除硬遮罩的清洗液、其制备方法及应用，所述的清洗液由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：10％‑50％的氧化剂、0‑1％的D‑氨基酸氧化酶、0‑2％的D型氨基酸、0.1％‑10％的有机碱、0.001％‑10％的螯合剂、0.005％‑10％的缓蚀剂、0.05％‑10％的羧酸铵、0.005％‑1.2％的EO‑PO聚合物L42、0.005％‑2％的钝化剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占各组分总质量的百分比。本发明清洗液对多种金属及电介质缓蚀性强，清洗效果佳；并且本发明的清洗液可回收并可多次循环使用，最大使用次数可达10次，大大降低了芯片制造的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 选择性 硬遮罩 清洗 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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