[发明专利]一种套刻标记及测量配置的分步优化方法在审
| 申请号： | 202010176579.2 | 申请日： | 2020-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN111458984A | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 刘世元;王鹏;石雅婷;李旷逸;陈修国;谷洪刚 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66;H01L23/544 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智;孔娜 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻领域，并具体公开了一种套刻标记及测量配置的分步优化方法，包括如下步骤：S1确定待优化变量和多个优化目标，所述待优化变量包括套刻标记形貌参数和测量配置参数；S2根据一个优化目标，结合预设的套刻标记基本参数，对所确定的待优化变量进行优化，并设置终止条件，得到多组优化结果；S3设置另一个优化目标的阈值，并根据该优化目标的阈值对优化结果进行筛选，保留满足条件的优化结果；S4重复S3，直至所有优化目标都已使用，得到最终优化结果，完成套刻标记及测量配置的分步优化。本发明能提供准确度高、重复性测量精度好、鲁棒性好的套刻标记与对应的测量配置，能够满足套刻误差的测量需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 标记 测量 配置 分步 优化 方法 | ||
【主权项】：
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