[发明专利]可抑制腔内高阶畸变的直接液冷阵列式薄片非稳谐振腔有效
| 申请号： | 202010156250.X | 申请日： | 2020-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN111404000B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 易家玉;阮旭;胡浩;涂波;曹海霞;高清松;唐淳 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 |
| 主分类号： | H01S3/04 | 分类号： | H01S3/04;H01S3/042;H01S3/081 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 阳佑虹 |
| 地址： | 621000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可抑制腔内高阶畸变的直接液冷阵列式薄片非稳谐振腔，其结构包括直接液冷阵列分布式增益模块、谐振腔镜、4f相传递、光阑、反射式体布拉格光栅和泵浦系统。本发明针对直接液冷直接液冷阵列式薄片激光装置受液体流动引入高阶畸变较多而导致光束质量较差的弊端，创新性地提出了改变非稳腔结构并在腔内引入4f系统，腔内采用光阑和反射式布拉格光栅相结合的方式实现对高阶波前畸变抑制，从而获得高光束质量激光输出。本发明的激光装置不仅可以有效解决固体激光热管理的问题，同时实现高光束质量激光输出，是一种新型的高功率激光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 可抑制 腔内高阶 畸变 直接 阵列 薄片 谐振腔 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院应用电子学研究所，未经中国工程物理研究院应用电子学研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010156250.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
