[发明专利]一种靶材晶粒微细化的制成工艺有效

专利信息
申请号: 202010148378.1 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111318570B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 尤小磊;常艳超;中村晃;董常亮 申请(专利权)人: 爱发科电子材料(苏州)有限公司
主分类号: B21B15/00 分类号: B21B15/00;B21B37/00;B21B37/74;C23C14/34
代理公司: 北京精金石知识产权代理有限公司 11470 代理人: 张黎
地址: 215126 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种靶材晶粒微细化的制成工艺,首先将铝锭进行加热至170‑220℃后进行一次压延,一次压延过程中设计压延道次为≧2次,每次压下量相等,得半成品靶材;然后再对半成品靶材加热至300‑350℃后进行二次压延,二次压延中分为≧2个道次,第一道次压下量低于其余道次的压下量,得到成品靶材,通过金相显微镜观察发现,成品靶材中晶粒的平均尺寸≦90μm,且晶粒的尺寸分布更加集中。
搜索关键词: 一种 晶粒 微细 制成 工艺
【主权项】:
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