[发明专利]一种同时构筑纳米孔结构和表面电性的制膜方法有效
| 申请号： | 202010133938.6 | 申请日： | 2020-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN111282441B | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 孙世鹏;夏前程;樊凡;季铭;王悦;王振远 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B01D61/02 | 分类号： | B01D61/02;B01D67/00;B01D69/06;B01D69/08;B01D71/64 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 邓唯 |
| 地址： | 211816 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种修饰剂的官能团预保护策略（“糖衣”保护法），将膜成型和化学修饰同时进行；且能够协同构建膜的纳米结构和表面荷电性，实现一步法对分离膜的高效构建。更具体的是，首先将聚合物和修饰剂共同配制铸膜液，为了避免在预混过程中聚合物与修饰剂提前反应凝胶化现象的发生，在共混前对修饰剂的反应官能团进行预保护；随后在凝固浴中对其进行脱保护，释放出的修饰剂与聚合物发生化学修饰反应，膜的相转化同时发生；并在这一过程中，巧妙地设计了伴随反应以产生小分子气体，用于膜的传输通道构建，取代了致孔剂，从而一步法制膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 同时 构筑 纳米 结构 表面 方法 | ||
【主权项】：
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