[发明专利]套刻误差测量装置及方法在审
| 申请号： | 202010129746.8 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN113325665A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 杨晓青 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种套刻误差测量装置及方法，所述套刻误差测量装置包括照明单元、分光器件、光路折转单元、物镜、第一探测单元和数据处理器。所述照明单元提供的光照经所述分光器件第一光束和第二光束，所述第一光束经所述物镜传输至所述衬底上，并经所述衬底反射至所述分光器件中形成第三光束，所述第三光束传输至所述第一探测单元，所述第一探测器获取第二信号。所述第二光束经所述光路折转单元传输至所述分光器件，并经所述分光器件反射至所述第一探测单元，所述第一探测器获取第一信号。所述数据处理器根据所述第一信号对所述第二信号进行校准，以获得更为精准的套刻误差，进而提高套刻误差测量装置的检测性能，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
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