[发明专利]一种热蒸发物理气相沉积系统及其使用方法在审
| 申请号： | 202010128343.1 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111206227A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 刘胜;张磊;东芳;周振;孙成亮;吴国强 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54;C23C14/50 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡琦旖 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于薄膜生长技术领域，公开了一种热蒸发物理气相沉积系统及其使用方法，系统包括：真空组件、在线监测组件；真空组件包括真空镀膜腔，真空镀膜腔中设置有坩埚；在线监测组件包括质谱仪、纳米压痕仪；质谱仪用于对蒸发的气体成分进行实时监测；纳米压痕仪用于对镀膜与衬底之间的粘合强度进行实时监测。本发明具有多维度质量检测功能，可以显著提高PVD中生长样品的良品率，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸发 物理 沉积 系统 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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