[发明专利]用于先进图案化的软着陆纳米层压层在审
| 申请号： | 202010119340.1 | 申请日： | 2014-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN111501013A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 弗兰克·L·帕斯夸里;尚卡·斯瓦米纳森;阿德里安·拉瓦伊;纳德·沙姆玛;吉里什·迪克西特 | 申请（专利权）人： | 诺发系统公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/40;C23C16/455;H01L21/02;H01L21/033;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于先进图案化的软着陆纳米层压层，具体提供了用于在芯部层上沉积纳米层压保护层以允许在芯部层上沉积供先进多图案化方案使用的高质量保形膜的方法。在某些实施例中，所述方法涉及使用低的高频射频(HFRF)等离子体功率通过基于等离子体的原子层沉积来沉积薄氧化硅或氧化钛薄膜，随后使用高HFRF等离子体功率沉积保形的氧化钛薄膜或间隔物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 先进 图案 软着陆 纳米 层压 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
