[发明专利]苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法在审
申请号: | 202010111166.6 | 申请日: | 2020-02-24 |
公开(公告)号: | CN111289463A | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 乔志霞;李蕊;赵倩;梁艳书;郭桂梅 | 申请(专利权)人: | 天津商业大学 |
主分类号: | G01N21/359 | 分类号: | G01N21/359;G01N21/84;G01N21/3563;G01L5/00;G01B5/26;G01M7/08 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 仝林叶 |
地址: | 300134 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法。本发明具体步骤包括:1)确定苹果样品的冲击损伤面积;2)提取苹果样品受损与未受损区域的平均光谱;3)光谱分析;4)建立苹果冲击损伤面积的预测模型。本发明能够快速、准确地实现对苹果冲击损伤面积的无损量化及预测,可为无损评估果实的机械损伤提供重要手段,也为高光谱成像技术应用于农产品领域提供借鉴。 | ||
搜索关键词: | 苹果 冲击 损伤 面积 光谱 无损 预测 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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