[发明专利]苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法在审

专利信息
申请号: 202010111166.6 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111289463A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 乔志霞;李蕊;赵倩;梁艳书;郭桂梅 申请(专利权)人: 天津商业大学
主分类号: G01N21/359 分类号: G01N21/359;G01N21/84;G01N21/3563;G01L5/00;G01B5/26;G01M7/08
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 仝林叶
地址: 300134 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法。本发明具体步骤包括:1)确定苹果样品的冲击损伤面积;2)提取苹果样品受损与未受损区域的平均光谱;3)光谱分析;4)建立苹果冲击损伤面积的预测模型。本发明能够快速、准确地实现对苹果冲击损伤面积的无损量化及预测,可为无损评估果实的机械损伤提供重要手段,也为高光谱成像技术应用于农产品领域提供借鉴。
搜索关键词: 苹果 冲击 损伤 面积 光谱 无损 预测 方法
【主权项】:
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