[发明专利]甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用有效
| 申请号： | 202010032152.5 | 申请日： | 2020-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN111186835B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 刘俊祥;孔庆锋;刘强;曹春峰 | 申请（专利权）人： | 北京诺芯环境科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 周淑歌 |
| 地址： | 102200 北京市昌*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用。具体涉及甲苯二异氰酸酯釜残在制备石墨中的应用。甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，包括以下步骤：在绝氧环境下将温度升至500‑2000℃对甲苯二异氰酸酯釜残进行微波裂解，得到含石墨的产物。甲苯二异氰酸酯釜残在绝氧条件下进行微波裂解，可以得到含有石墨的产物。该处理甲苯二异氰酸酯釜残的方法操作简单方便，且可以生成石墨，经济效益高。 | ||
| 搜索关键词： | 甲苯 氰酸 酯釜残 应用 及其 制备 石墨 方法 | ||
【主权项】：
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