[发明专利]一种飞秒激光弱烧蚀小夹角干涉制备高密度光栅的方法在审
| 申请号： | 202010004831.1 | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN111060999A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 曹凯强;陈龙;孙真荣;贾天卿 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B23K26/60;B23K26/362;B23K26/067 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 | 代理人： | 徐筱梅;张翔 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种飞秒激光弱烧蚀小夹角干涉制备高密度光栅的方法，其搭建了双光束激光干涉系统，利用柱面透镜在小夹角下汇聚得到的光斑对样品进行刻蚀。刻蚀过程中精确地控制激光与材料的相互作用过程，在弱烧蚀下使得样品几乎不会去除任何材料而在样品上刻蚀得到了高度均匀的纳米光栅结构。通过控制精密五轴平移台，沿Z轴干涉条纹方向移动样品，利用飞秒激光诱导自组织周期条纹生长的特性，可以制备宽度为光束直径的长条形光栅。进一步平移光束直径的0.8‑0.9倍距离，继续平行与长条形光栅反向移动样品，就可以制备大面积的高度均匀的纳米光栅。本发明在制备大尺寸、高密度刻线光栅元器件方面优势明显，具有抗干扰能力强，操作便捷及经济高效的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 弱烧蚀小 夹角 干涉 制备 高密度 光栅 方法 | ||
【主权项】：
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