[发明专利]磁悬浮系统、用于磁悬浮系统的载体和操作磁悬浮系统的方法在审
| 申请号: | 201980093452.X | 申请日: | 2019-03-01 |
| 公开(公告)号: | CN113574650A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
| 发明(设计)人: | 亚历山大·森多布里;乔格·舒勒;马丁·恩斯特;克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼;布里塔·斯帕 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;F16F7/104 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 提供了一种磁悬浮系统,包括:基部结构;载体,所述载体在运输方向上相对于所述基部结构可移动;和至少一个主动磁轴承,所述至少一个主动磁轴承被构造成产生作用在保持方向上的磁保持力,以用于将所述载体保持在所述基部结构处。所述载体和/或所述基部结构包括多个阻尼单元,所述多个阻尼单元中的第一阻尼单元被调谐到第一频率或第一频率范围,并且所述多个阻尼单元中的第二阻尼单元被调谐到第二频率或第二频率范围。 | ||
| 搜索关键词: | 磁悬浮 系统 用于 载体 操作 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980093452.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:核燃料循环再混合
- 下一篇:分布式系统中的异步存储管理
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





