[发明专利]制造孔径装置的方法在审
申请号: | 201980086497.4 | 申请日: | 2019-12-12 |
公开(公告)号: | CN113228220A | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 方杰;王義向;张齐容;张浩杰;杨巾梅;朱丰慧 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J37/09 | 分类号: | H01J37/09 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 赵林琳 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种制造孔径装置的方法包括在基本层(500)的第一侧形成第一层(510)。基本层可以是包括多个层的衬底的一部分。该方法还包括在第一层上形成第二层(515)。第二层的材料包括金属。该方法还包括在第二层中形成开口(516),通过蚀刻在第一层中形成开口(511),去除第二层,以及通过电化学蚀刻在基本层中形成开口(505)。该方法可以包括对第一层进行干蚀刻。 | ||
搜索关键词: | 制造 孔径 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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