[发明专利]利用成角度光刻制造光导元件的系统和方法在审
| 申请号： | 201980086402.9 | 申请日： | 2019-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN113272735A | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | J.邓菲;D.哈奇森 | 申请（专利权）人： | 伟摩有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金玉洁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 这里描述的系统和方法涉及光学元件和光学系统的制造。示例系统可以包括光学部件，该光学部件配置为引导来自光源的光从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料并将光致抗蚀剂材料中的成角度结构的至少一部分曝光，其中光致抗蚀剂材料覆盖基板的顶表面的至少一部分。光学部件包括容纳光耦合材料的容器，该光耦合材料部分地基于期望的角度来选择。光学部件还包括反射镜，该反射镜布置为反射光的至少一部分从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 角度 光刻 制造 元件 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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