[发明专利]晶片制造方法以及晶片在审
| 申请号： | 201980086186.8 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN113439008A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 鸟居勘太郎 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B9/00;B24B37/08;B24B37/10;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;张一舟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶片制造方法，所述晶片具有槽口部，所述晶片制造方法包括如下工序：双面抛光工序，抛光晶片的两个主面；槽口镜面抛光工序，镜面抛光槽口部的槽口倒角部；外周镜面抛光工序，镜面抛光晶片中外周部的外周倒角部；以及精抛工序，精抛晶片的一个主面，在按照槽口镜面抛光工序、双面抛光工序以及外周镜面抛光工序的顺序进行这些工序后，进行精抛工序。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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