[发明专利]电位移材料、使用其的光学元件、微透镜阵列、及光学元件的制作方法在审
| 申请号： | 201980084203.4 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN113260896A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 山田泰美;江守秀之;平井利博 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社;国立大学法人信州大学 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G02B3/00;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供一种降低了驱动电压的电位移材料及其应用技术。将在凝胶状的高分子材料中添加有25℃下的负离子的迁移数为0.4以上的离子液体或25℃下的负离子的迁移数为0.2以上的离子型表面活性剂的电位移材料配置在第一电极与第二电极之间以制作光学元件。在该光学元件中，用于使电位移材料变形的施加电压的等级被降低，通过施加被降低的电压，从而在第一电极或第二电极的表面上形成光散射体。 | ||
| 搜索关键词： | 电位移 材料 使用 光学 元件 透镜 阵列 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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