[发明专利]包含用于无空隙亚微米特征填充的添加剂的用于镀钴的组合物在审
| 申请号： | 201980083208.5 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN113195794A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | S·基塔亚波恩;C·埃姆内特;D·迈耶;N·恩格尔哈特;M·阿诺德;L·B·亨德森;A·弗鲁格尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C25D3/16 | 分类号： | C25D3/16;C25D3/18;C25D7/12;C25D5/18 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张双双;刘金辉 |
| 地址： | 德国莱茵河*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种组合物，其包含基本上由钴离子组成的金属离子和包含羧酸、磺酸、亚磺酸、膦酸或次膦酸官能团的特定单体和聚合物抑制剂，其显示无空隙自下而上填充纳米大小的凹陷特征所需的抑制效果。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 用于 空隙 微米 特征 填充 添加剂 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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