[发明专利]用于金属的化学机械抛光的组合物及方法有效
| 申请号： | 201980080181.4 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN113166587B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | S.克拉夫特;F.孔罗;D.克林格曼;R.A.伊瓦诺夫;S.格伦宾 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B37/005;B24B37/04;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于对基板进行抛光的化学机械抛光组合物，其包含：液体载剂；以及分散于该液体载剂中的阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒。该阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒具有经至少一种化合物改性的表面，该至少一种化合物由具有至少一个季铵基的甲硅烷基组成。用于对包括金属层的基板进行化学机械抛光的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，以及研磨该基板以自该基板移除该金属层的一部分且由此对该基板进行抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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