[发明专利]用于感测介质的阻抗变化的半导体装置在审

专利信息
申请号: 201980068105.1 申请日: 2019-10-16
公开(公告)号: CN112868107A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 埃尼斯·通杰尔;维卡斯·古普塔 申请(专利权)人: 德州仪器公司
主分类号: H01L31/08 分类号: H01L31/08;H01L31/18;G01N27/22
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 所描述实例包含一种传感器装置,其具有定位在半导体衬底上方的第一导体层(110)的中央垫上的至少一个导电细长第一柱(140),所述第一柱(140)在正交于所述第一导体层(110)的表面的平面的第一方向上延伸。导电细长第二柱(150)以正交定向定位在所述半导体衬底上方的第二导体层(120)上,所述导电细长第二柱(150)处在与所述第一导体层(110)中的通孔开口重合的位置处。所述第二导体层(120)平行于所述第一导体层(110)并通过至少绝缘体层(130)与所述第一导体层(110)间隔,所述导电细长第二柱(150)在所述第一方向上延伸通过所述通孔开口中的相应一者。所述至少一个导电细长第一柱(140)通过间隙与环绕导电细长第二柱(150)间隔。
搜索关键词: 用于 介质 阻抗 变化 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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