[发明专利]用于预防或抑制发弧的化学气相沉积工具在审
| 申请号： | 201980052665.8 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN112567072A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 崎山行则;卡尔·弗雷德里克·利瑟;文森特·布克哈特 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23C16/509 | 分类号： | C23C16/509;C23C16/458;C23C16/455;C23C16/52;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 化学气相沉积(CVD)工具抑制或完全消除衬底基座和衬底之间的发弧。CVD工具包括直流(DC)偏置控制系统，其配置成将设置处理室中的衬底基座维持在与通过处理室中的等离子体所产生的DC偏压相同或基本上相同的DC偏压。通过将衬底基座和具有与等离子体相同的电位的衬底维持在相同或基本上相同的电压电位，抑制或完全消除发弧。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 预防 抑制 化学 沉积 工具 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
