[发明专利]涂敷方法、光学元件以及透镜组件在审

专利信息
申请号: 201980050301.6 申请日: 2019-07-29
公开(公告)号: CN112513682A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 中川小百合;加本贵则;中山隆司;山本明典;塩原秀;J·T·达玛斯科提;渡邉友启 申请(专利权)人: 日本电产株式会社;日本电产三协株式会社
主分类号: G02B1/18 分类号: G02B1/18;B32B7/023;B32B27/00;B32B27/30;G02B1/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 沈捷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种能提高光学元件的耐候性的涂敷方法。涂敷方法包含:在包括透镜(11)的透光性构件(10)的表面进行前处理的工序;以及在所述前处理之后在透光性构件(10)的表面(10a)形成防水膜(20)的工序。透光性构件(10)的最外层含有氧化硅。通过前处理,与透光性构件(10)的表面(10a)结合的羟基的数量增加。防水膜(20)含有含氟有机硅化合物。前处理后的透光性构件(10)的表面能的极性成分为35mJ/mm2以上且55mJ/mm2以下。
搜索关键词: 方法 光学 元件 以及 透镜 组件
【主权项】:
暂无信息
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