[发明专利]涂敷方法、光学元件以及透镜组件在审
| 申请号: | 201980050301.6 | 申请日: | 2019-07-29 | 
| 公开(公告)号: | CN112513682A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 | 
| 发明(设计)人: | 中川小百合;加本贵则;中山隆司;山本明典;塩原秀;J·T·达玛斯科提;渡邉友启 | 申请(专利权)人: | 日本电产株式会社;日本电产三协株式会社 | 
| 主分类号: | G02B1/18 | 分类号: | G02B1/18;B32B7/023;B32B27/00;B32B27/30;G02B1/14 | 
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 沈捷 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | 
                            提供一种能提高光学元件的耐候性的涂敷方法。涂敷方法包含:在包括透镜(11)的透光性构件(10)的表面进行前处理的工序;以及在所述前处理之后在透光性构件(10)的表面(10a)形成防水膜(20)的工序。透光性构件(10)的最外层含有氧化硅。通过前处理,与透光性构件(10)的表面(10a)结合的羟基的数量增加。防水膜(20)含有含氟有机硅化合物。前处理后的透光性构件(10)的表面能的极性成分为35mJ/mm | 
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| 搜索关键词: | 方法 光学 元件 以及 透镜 组件 | ||
【主权项】:
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