[发明专利]下层膜形成组合物在审

专利信息
申请号: 201980050223.X 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN112513737A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 冈田悠;牧野岛高史;越后雅敏 申请(专利权)人: 三菱瓦斯化学株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;C08G8/04;G03F7/20;G03F7/039
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于,提供有用的下层膜形成组合物。前述课题可以通过以下的下层膜形成组合物来解决。一种下层膜形成组合物,其包含具有下述式(1)所示的结构单元的化合物和溶剂,前述化合物的重均分子量按聚苯乙烯换算分子量计为1000~30000,前述化合物对于丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶解性在23℃下为10质量%以上(式(1)中,A为单键或2价基团,R1各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2中的至少1个为羟基和/或巯基,m1各自独立地为0~5的整数,m2各自独立地为0~8的整数,p2各自独立地为0~2的整数。)
搜索关键词: 下层 形成 组合
【主权项】:
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