[发明专利]通过控制气相瞬态物种形成的薄膜沉积工艺在审
| 申请号： | 201980049650.6 | 申请日： | 2019-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN112513320A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | A·E·卡洛耶罗斯;B·C·阿克尔斯 | 申请（专利权）人： | 盖列斯特科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/16 | 分类号： | C23C16/16;C23C16/24;C23C16/448;C23C16/452;C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 徐迅;高一平 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种用于在基板上沉积薄膜的方法。该方法包括提供包含一个或多个构成薄膜的元素的源前体，从源前体产生瞬态物种，以及从该瞬态物种将薄膜沉积到基板上。瞬态物种是反应性中间体，在室温或高于室温的冷凝相中具有有限的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 控制 瞬态 物种 形成 薄膜 沉积 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
